今日.重大通报“新玉海楼茶苑果然有挂”揭晓插件开挂教程

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【央视新闻客户端】

  记者丨何己派 鄢子为 编辑丨鄢子为

  中国刻蚀机之父,筹划一桩交易。

  12月19日,尹志尧掌舵的中微公司称,拟发行股份,购买“杭州众硅”控股权。

  其行动迅速,已与标的股东杭州众芯硅工贸、上海宁容海川等签署《购买资产意向协议》。

  作为买方,中微头顶技术光环,产业资源丰富。其董事长尹志尧,为顶尖半导体专家,60岁时创办中微,专注研发刻蚀设备。

  经过21年的攻坚,他带出一家市值超1700亿元的芯片设备龙头,且6年来已投资30多家产业链标的。此次,尹志尧即将再下一城,沿着“平台化”路径狂奔。

  “此次筹划收购,绝非简单的规模扩张,而是中微基于行业发展规律和自身阶段作出的审慎决策。”芯谋研究首席分析师顾文军向《21CBR》记者解释。

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  老骥伏枥

  现年81岁的尹志尧,长期奔波在一线,干劲十足。

  4月,他撰写《董事长致辞》,强调中微的目标,是成为“国际一流半导体设备公司”,并给团队打气,称“目标一定能实现”。

  其精神矍铄,今年以来,多次带着管理层,接待投资机构,规划未来。

  中微董事长尹志尧

  “我们计划,通过外延收购和内生研发的方式,覆盖超六成的半导体前道设备品类。”管理层5月指出,对收购机会,中微保持积极且开放的态度。

  中微并购经验丰富。

  尹志尧曾列出一组数据,上市以来,公司投资了30多家产业链上下游企业,斥资20多亿,浮盈50多亿,实现良好的经济效益和战略协同效果;参股的8家企业,已在A股上市。

  临近年底,中微再度出手。

  其看中的杭州众硅,成立于2018年,早就跻身“独角兽”之列,擅长制造高端CMP(化学机械平坦化抛光)设备。

  CMP属于芯片制造的前道工序,可以理解为“抛光打磨”技术,即把芯片压在旋转的抛光垫上,一边靠细小磨料做物理研磨,一边靠化学试剂腐蚀芯片表面,共同将表面磨平整。

  杭州众硅的设备,已获客户认可,陆续中标上海新微、云南创视界光电科技的订单,还被评为杭州士兰集昕的优秀供应商。

  值得注意的是,中微本就是其第二大股东,持股12%;尹志尧本人还于9月,进入杭州众硅管理层,担任董事。

  当前,半导体产业整合更注重战略协同与技术补强,而非单纯的资本扩张。

  “中微此次筹划收购,是经过长期观察、先期战略投资后的稳步推进,核心目的在于‘补全’与‘强化’。”

  顾文军告诉记者,杭州众硅主攻湿法工艺,在技术上具有稀缺性和互补性。

  “交易价格将以资产评估报告为基础,经各方协商确定。”公告补充,仅达成初步意向。尹志尧团队将在签署正式协议后,发布详细方案。

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  剑指平台

  尹志尧是中微的灵魂人物,履历丰富。

  他是北京人,本科毕业于中科大,后拿到加州洛杉矶分校博士学位。

  40岁那年,他作为第一个中国留学生加入英特尔,二十年后,毅然放弃百万年薪,带领十五位同仁飞抵上海浦东,开启创业。

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  《21CBR》记者注意到,2024年财报显示,尹志尧已放弃美国国籍,恢复中国籍。

  这位“发明家创始人”,正带领中微冲刺新目标。

  他计划用五至十年,逐步覆盖半导体高端设备的50%-60%,推动中微尽早转型高端设备平台化公司。

  到2035年,中微要进入全球半导体设备第一梯队。

  10月底,尹志尧提到,中微拥有三十多种设备,覆盖半导体高端设备的25%-30%。结合进程来看,若达成目标,他将实现“再造一个中微”。

  加紧赶路,尹一手抓并购,一手抓研发。

  目前,中微的在研项目涵盖六类设备,同时开发超二十款新设备,速度显著加快。

  过去,其通常需要3-5年开发一款新设备,现只需两年或更短时间完成新品开发,并迅速量产。官方称,未来数年,将加速、大规模推出多种新品。

  走向平台化,其重要的产品抓手,在于薄膜沉积设备。

  2025年9月,尹志尧一口气发布6款新品,其中有四款是薄膜沉积设备。

  1-9月,其薄膜设备收入,体量已有4个多亿,同比增速高达13倍。

  这块业务,于2010年开始布局,近两年开发的新产品——LPCVD和ALD薄膜设备,已进入市场,并获得重复性订单。

  按计划,中微未来要开发约40种导体薄膜设备,覆盖全部类别的先进金属应用。

  “我们很快将会把国际对国内禁运的20多种薄膜设备开发完成,预计到2029年,完成所有开发。”尹志尧5月表示。

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  提速扩张

  尹志尧围绕平台化的大干快上,在于设备生意迎来好周期。

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  芯片制造,离不开“三剑客”,光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备。

  打个比方,光刻机是打草稿的“画笔”,刻蚀机是“雕刻刀”,薄膜沉积设备则是给晶圆贴材料的“油漆刷”。

  微观器件越做越小,结构从2D转到3D,带来刻蚀跟薄膜的应用总量跟步骤数,大幅增加。

  市场对这两类设备的需求量大增,这是中微业绩强劲增长的底层动力。

  从规模来看,刻蚀设备仍是主力,贡献超75%收入。尹志尧主导下,中微已开发3代、18款刻蚀机,持续巩固基本盘。

  其等离子体刻蚀已批量出货给国内存储、逻辑等客户产线,截至2025年上半年,CCP刻蚀设备累计装机量超4500个反应台,ICP刻蚀设备累计装机量超1200个反应台。

  目前,业内量产所用刻蚀机的深宽比在60:1,尹志尧团队正在突破90到100:1的深孔刻蚀。

  扩大产品覆盖面的同时,尹志尧加紧提高产能。

  南昌生产研发基地、上海临港生产研发基地,均已投入使用,产能大幅提升;上海临港滴水湖畔,占地约10万平方米的总部大楼暨研发中心,也在顺利建设。

  这三块基地,合计新增总面积将达42万平方米,较2022年,新增15倍。

  为确保今后十年有足够的厂房,保障新品研发和产能高速增长,中微规划,在广州增城区及成都高新区,落地新生产基地,且已开工。

  扩地,也增员。

  截至6月底,中微员工大幅增至2638人。管理层预计,2025年也将保持稳定的人员增速。

  投人投钱,外部并购、自主研发双线并行,这位半导体专家期待抓住机遇,再一次突围。

 


 

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